Jak wszyscy wiemy, jest tylko jeden producent na świecie, który może produkować litografię EUV, jest toASML w Holandii.
Powodem, dla którego na świecie jest tylko jeden producent, jest to, że ASML połączył ze sobą wielu kluczowych producentów, takich jak Zeiss (Zeiss), niemiecka firma optyczna, Cymer (USA) iTRUMPF (Niemcy).
ASML przywiązał tych producentów do swojego rydwanu poprzez inwestycje, przejęcia, udziały, zakładanie ośrodków badawczych i tak dalej, a ci producenci są prawdopodobnie jedynymi producentami na świecie, którzy mogą wytwarzać te produkty, więc ostatecznie tylko ASML na świecie może produkować litografię EUV.
Jednak ostatnio kluczowy łańcuch dostaw ASML pobiegł do Shenzhen w Chinach, aby zbudować fabrykę, a jej spółka zależna w Shenzhen osiedliła się w chińsko-niemieckim (europejskim) przemysłowym parku demonstracyjnym Baoan.
Tym producentem jest niemiecka grupa TRUMPF (TRUMPF), to litografia EUV firmy ASML, jedyny na świecie dostawca źródeł laserowych.
Produkty TRUMPF w litografii EUV, jak ważne? Najpierw posłuchaj, jak wyjaśniam zasadę litografii EUV, zrozumiesz.
Mówiąc prościej, zasada litografii EUV koncentruje się na trzech głównych systemach: systemie źródła światła ultrafioletowego EUV, systemie zwierciadeł obiektywnych i systemie stołów.
Specyficzny proces polega na użyciu lasera do wzbudzenia ekstremalnego światła ultrafioletowego o długości fali 13,5 nm, które jest następnie korygowane w celu utworzenia kontrolowanej wiązki światła, która jest następnie rzutowana na stół fotomaski przed rzutowaniem przez lustro obiektywu na stół ekspozycyjny i ostatecznie wyryte w obwodzie na płytce krzemowej pokrytej fotorezystem.
Jak uzyskuje się jeden z systemów źródła światła UV EUV przez bombardowanie kropli metalu cyny (Sn) laserem CO2 o mocy 30 kW, odparowanie jej do postaci plazmy i ostatecznie uzyskanie światła EUV o długości fali 13,5 nm.
Ten laser CO2 o mocy 30 kW jest dostarczany przez firmę TRUMPF, jedyną na świecie.
Nie lekceważ tego lasera CO2, składa się on z 457 329 części, długość kabla w systemie wynosi do 7 322 metrów, a waga to 17 090 kg, co jest jednym z najważniejszych podstawowych elementów litografii EUV.
Teraz TRUMPF pobiegł do Chin, aby zbudować fabrykę, intencja jest jasna, to znaczy optymistyczna co do chińskiego rynku laserów, a jeszcze bardziej długoterminowa perspektywa, optymistyczna co do chińskiego rynku litografii, w przyszłości może współpracować z Chinami przy budowie litografii EUV .
W rzeczywistości istnieje już więcej niż jeden łańcuch dostaw ASML biegnący do Chin w celu budowy fabryki, istnieje KMWE i inni producenci, również do Chin w celu budowy fabryki.
Zgodnie z obecnym trendem, możemy optymistycznie oczekiwać, że może nie minąć dużo czasu, zanim chińska technologia litografii będzie dużym krokiem naprzód, a nawet wielkość produkcji litografii EUV, może również oczekiwać, jak myślisz?
